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实验室胶体磨  招商

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产品说明

 

 

 

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高剪切胶体磨主要用途:

 

高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎,能琪到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。

 

依肯高剪切胶体磨优势:

 

CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

     三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,*的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。    袁经理     

 

 

IKN实验室乳化机的结构:

立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。

工作头:

我们可以是单级,二级,三级,处理的物料范围更广。并且我们的转子定子结构符合流体力学的线性结构。在转动时流体是切线方向甩开。

影响分散乳化结果的因素有以下几点

乳化头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

乳化头的剪切速率  (越大,效果越好)

乳化头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4  物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。 

– 剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)                 g -转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素: 

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 IKN -转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(转子直径)转速 RPM  /   60

 如有疑问请致电IKN销售工程师,IKN全体员工将竭诚为您服务!

 

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