加工定制 | 是 |
品类 | 隧道式 |
传热面积 | 9 |
转速 | 9 |
占地面积 | 6 |
规格 | LW-20HWV-4X |
是否跨境货源 | 是 |
适用物料 | 多种可用 |
干燥介质 | 空气 |
工作原理 | 脉冲 |
湿物料运动方式 | 固定床式 |
应用领域 | 单晶硅 |
脱水量 | 16 |
装机功率 | 20 |
进风量 | 0 |
进风温度 | 0 |
功率 | 20 |
外形尺寸 | 8.5*1.2*2 |
重量 | 1600 |
微波设备在单晶硅干燥的研究 硅是地球上储藏最丰富的材料之一,从19世纪科学家们发现了晶体硅的半导体特性后,它几乎改变了一切,甚至人类的思维。直到上世纪60年代开始,硅材料就取代了原有锗材料。硅材料――因其具有耐高温和抗辐射性能较好,特别适宜制作大功率器件的特性而成为应用*一种半导体材料,集成电路半导体器件大多数是用硅材料制造的。
微波设备在单晶硅干燥的研究 熔融的单质硅在凝固时硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核,如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒,则这些晶粒平行结合起来便结晶成单晶硅。单晶硅具有准金属的物理性质,有较弱的导电性,其电导率随温度的升高而增加,有显著的半导电性。超纯的单晶硅是本征半导体。在超纯单晶硅中掺入微量的ⅢA族元素,如硼可提高其导电的程度,而形成p型硅半导体;如掺入微量的ⅤA族元素,如磷或砷也可提高导电程度,形成n型硅半导体。
单晶硅微波干燥设备参考参数:
设备工作电源:三相五线380V±10%
微波工作频率:2450MHZ±50MHZ
微波功率:40KW(大小可根据产量定做)
烘干干燥温度:可调可控
进出料口高度:60mm(可定做)
传输带宽度:680mm(可定做)
传输速度:0~5m/min(变频调速)
脱水效率:40kg/小时
外型尺寸(长宽高):约11000*1500*2200mm(可按车间尺寸定制)
特别说明:本信息的图片和资料仅供参考,欢迎联系我们索取准确的资料,谢谢!
微波设备在单晶硅干燥的研究