| 处理能力 | 300 |
| 配用功率 | 4 |
| 粉碎程度 | 超微粉碎 |
| 原理 | 高速万能粉碎机 |
| 适用物料 | 通用 |
| 应用领域 | 化工 |
沉淀法白炭黑高速胶体磨，改性白炭黑胶体磨，德国白炭黑胶体磨，白炭黑研磨分散机，改进型白炭黑胶体磨，14000转白炭黑胶体磨此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,最小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
白炭黑具有特殊的表面结构( 带有表面羟基和 吸附水) , 特殊的颗粒形态( 粒子小, 比表面积大等) 和独特的物理化学性能, 广泛应用于橡胶, 塑料, 涂 料, 医药, 日用化工诸多领域. 然而, 由于白炭黑内部的聚硅氧和外表面存在 的活性硅醇基及其吸附水, 使其呈亲水性, 在有机 相中难以湿润和分散, 而且, 由于其表面存在羟基, 表面能较大, 聚集体总倾向于凝聚。
IKN改性白炭黑改进型胶体磨（研磨分散机）,是IKN公司研发出来的新品,是由胶体磨和分散机组合而成的。将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。白炭黑既可以有效分散,又可以防止团聚。
分散的难点是 如何分散研磨到合适的颗粒大小及均匀分布
从设备角度分析，影响研磨粉碎结果的因素有以下几点
2 胶体磨磨头的剪切速率 （越大，效果越好）
3 胶体磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，越细齿效果越好）
4 物料在研磨腔体的停留时间，研磨粉碎时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5物料在腔体内的循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
粉碎研磨分散的本质是通过能量的输入使不相溶的两相或多相达到互相包裹，近似稳定均一状态的做功过程。即形成乳液或悬浮液的条件是，在某一能量水平上， ge种微滴颗粒集聚的速度与分散的速度达到动态的平衡。
目前国nei市场上大多数的湿法粉碎机厂家生产出来的湿法粉碎机转速只能达到3000rpm左右，当然我所说的国nei湿法粉碎机的结构大都都是直连电机或者分体式 ，粉碎机的主轴和电机直连，电机就决定了主轴的转速。
此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,最小的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
IKN改进型胶体磨在设计上的突出优点在于：
1,转速zui高可达14000转,相较其它厂家2900转左右高出约三倍：
2,磨头结构更精密并有独特设计,使之研磨作用力更大,效果更好。
3,德国进口双端面机械密封拥有独特结构和特殊材质保证高速运转和长使用寿命。
4,CMD2000/5中试型研磨机与大型工业管线式量产机型配置基本相同。各种工作头的种类及相应线速度相同,中试过程中的工艺参数在工业化后之后不用重新调整,从而将机器型号升级到工业化的过程中的风险降到zui低。
IKN管线式研磨分散机（改进型胶体磨）的技术参数：
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
沉淀法白炭黑高速胶体磨，改性白炭黑胶体磨，德国白炭黑胶体磨，白炭黑研磨分散机，改进型白炭黑胶体磨，14000转白炭黑胶体磨
