供应高速湿法研磨分散机  招商

　供应高速湿法研磨分散机，IKN研磨分散机CMD2000系列，德国进口研磨分散机，双端面机械密封德国分散机，立式高剪切研磨分散机，通用型流体浆料分散机，高速纳米级研磨分散机

　　CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

　　IKN高剪切研磨分散机的特点:

　　IKN研磨分散机是上海机械设备公司和德国IKN工程师合作研发的一款高科技产品，由胶体磨、分散机组合而成；是国内*一款将研磨和分散两种功能结合的最*的流体设备。

　　1.线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力非常强烈，通常所说的超细湿磨

　　2.定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

　　3.定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

　　4.在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

　　5.高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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上海依肯CMD2000系列研磨分散机,可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题，其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料、石墨复合材料等多种新材料的制备应用上。CMD2000系列的胶体磨（锥体磨）分散头的组合,可以先将物料（配入溶剂和分散剂）研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。

　　CMD2000系列研磨分散机的结构:

　　*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

　　第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

　　CMD2000系列设备选型表:

　　1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

　　2.处理量取决于物料的粘度，稠度和最终产品的要求。

　　3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

　　4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.

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