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混悬液分散胶体磨  招商

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产品说明
处理能力 700
配用功率 4
粉碎程度 超细粉碎
原理 高速万能粉碎机
适用物料 通用
应用领域 化工

分散性优良混悬液胶体磨,混悬液胶体磨,德国胶体磨,高速胶体磨,固体分散在液体中胶体磨,研磨型分散胶体磨


1.混悬剂的要求是:混悬的微粒应细微均匀、下沉缓慢、其速度不影响剂量的正确量取;下沉后的微粒不结块,稍加振摇即能均匀分散;在长期贮存中粒子大小保持不变;不太粘稠,易倾倒;外形美观,味道可口并具有一定的防腐能力;外用混悬剂应易于涂布,不易流散,能快速干燥,干后能形成不易擦掉的保护膜。混悬剂的微粒一般在1um以上,混悬剂在医疗上应用较广,在口服、外用、注射、滴眼、气雾以及长效等剂型中都有应用。


2.分散法制备混悬液时,亲水性药物,一般先研至一定细度,再加液研磨和稀释;疏水性药物,应先将药物与润湿剂研匀,再加液研磨、稀释。凝聚法包括化学反应法和微粒结晶法,制备时应注意化学反应生成沉淀的条件,以便制得均匀、细腻的新生沉淀。处方中往往须加入助悬剂、润湿剂、絮凝剂与反絮凝剂等稳定剂。下面具体讨论混悬液分散制得的方法:主要采用上海依肯机械设备有限公司混悬液研磨分散机或者说是混悬液胶体磨,能够细化混悬液的颗粒,降低沉降速率,制得悬浮性好分散均匀的溶液。


3.混悬液医药级胶体磨就是高效、快速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体、气体)进入到另一互不相溶的连续相(通常是液体)的过程。而在通常情况下各个相是互不相溶的。当外部能力输入时,两种物料重组成为均一相。由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能,是物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂等综合作用,形成悬乳液、乳液和泡沫。从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下,瞬间均匀精细的分散乳化,经过高频的循环往复,最终得到稳定的高品质产品。

混悬液分散胶体磨,主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组分散头(定子+转子)同时工作,乳液经过高剪切后,液滴更细腻,粒径分布更窄,因而生成的混合液稳定性更好。三组分散头均易于更换,适合不同的工艺应用。该系列中不同的型号的机器都有相同的线速度和剪切率,非常易于扩大生产。适宜的温度,压力与粘度参数与DISPERSING一样。也符合CIP/SIP清洁标准,适合食品及医药生产。


当所处理的物料要达到非常细,分散程度高的时候,对于设备的要求就会非常的高。而从设备角度来考虑的话,能够达到超细的效果,要具备以下条件:
 

1、XX的剪切力,CMD2000系列研磨分散机转速高达14000rpm,线速度为44m/s,是普通设备的4-5倍。

2、高经密度的定转子,超细研磨分散机的定转子分为两级,一级为胶体磨磨头,采用三级错齿结构,磨头的沟槽的深度角度都符合流体力学的设计。第二级是分散头,IKN分散头有六种不同的规格,从粗到细,越来越密,分散效果佳。

3、机械密封,超细的效果取决于高的转速,而转速越高机械密封的发热量就会越大,设备的机械密封是否能够耐的住这么高的转速,国nei大多数厂家的机械密封是wu法承受的,上海依肯CMD系列采用的是德国双端面集装箱式机械密封。当有持续的冷冻水提供给机械密封时,设备可24小时连续生产。


IKN混悬液分散胶体磨的技术参数:

胶体磨


流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型


l/h

rpm

m/s

kW


CMD   2000/4


700

14000

40

4

DN25/DN15

CMD   2000/5


5,000

10,500

40

11

DN40/DN32

CMD   2000/10


10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

CMD   2000/20


30,000

4,900

40

45

DN80/DN65

CMD   2000/30


60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

CMD   2000/50


100000

2,000

40

160

DN200/DN150


*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。










1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

 


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