整机模块结构一体机高速胶体磨  招商

　整机模块结构一体机高速胶体磨，高效无死角超微粉碎胶体磨，直立式纳米胶体磨，可循环可在线高速胶体磨，定动齿结构高剪切胶体磨，IKN中试型胶体磨效率高、轻便、整机模块结构，操作方便，可长时间运转，轻松满足多种高要求的分散乳化实验。可在实验室模拟在线工况进行循环或在线连续处理，具有高效均质无分散死角等特点。

　　胶体磨由电动机、连接体、磨头等组成，磨盘采用优质不锈钢锻压制成，磨盘表面有三个以上沟槽，分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同，越是 向外延伸一级，磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。

　　转子与定字可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节，其功效为剪切率大、线速度长、无死角、处理量大、均质细化效果好。

上海依肯机械设备主要研发，生产制造，销售流体领域的几大系列：一高剪切分散乳化机，二 均质机，三 粉液分散机，四 胶体磨，五 搅拌机等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案，设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国nei的zhu名供应商，凭借着对广大客户要求的深入了解，为客户解决流程工艺中的难题，混合技术，乳化均质，粉液混合技术和合理的配置方案，确bao设备运行稳定的可靠性。

　　胶体磨，CM2000系列高剪切胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用zui佳几何机构的研磨定转子，zui好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

　胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的先进水平。

胶体磨三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。胶体磨CM2000系列肥料胶体磨的特点:

　　①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

　　②齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。

　　③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

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　　CM2000系列设备选型表

　　注:流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%

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