纳米混悬液破碎真空胶体磨  招商

纳米混悬液破碎真空胶体磨,纳米混悬液胶体磨，无气泡真空制药胶体磨，高剪切制药胶体磨，小粒径高浓度医药胶体磨，医药级无残留胶体磨可在线，可循环，转速高，线速度大，耗时短，环保无残留。

效果：比如两种液体物料反应生成固体颗粒，通过分别通入腔体，两种物料接触时被剪切成微滴，均匀混合后反应生成的粒子大小均匀，并且粒径很小。详情案例请咨询上海依肯机械  林万翠

纳米混悬液是以表面活性剂或(和)高分子聚合物为稳定剂，将药物颗粒分
散在水中，通过自组装技术或者破碎技术制备的一种亚微胶体分散系。与其他的
纳米制剂相比，纳米混悬制剂不需要任何载体材料，仅需要少量稳定剂即可实现大量药物纳米化，具有载药量高、粒径小、比表面积大、对生物膜粘附性强、不易被清除、能够提高难溶性药物的生物利用度等优势。
纳米混悬液常用的制备方法有多种，其中，以将药物颗粒由大到小的破碎技
术(如研磨、高压均质、微射流等)zui为常用。在破碎前，一般先将药物、稳定
剂分散/溶解于水相，即对药物和稳定剂进行前处理。然而，分散过程中强烈的
搅拌、剪切作用会使一些药物、稳定剂产生大量的泡沫，且泡沫会在破碎过程(研磨、高压均质、微射流等)中增多，进而阻碍破碎过程的进行。

纳米混悬液破碎真空胶体磨通过皮带对设备进行加速的。纳米混悬液在ikn真空均质机负压条件下，经高速剪切或快速搅拌，将药物混悬于水相A，再将容器与大气连通，使体系压力恢复正常，得混悬液B。其设备采用的结构设计是立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。

纳米混悬液破碎真空胶体磨是由锥体磨,分散机组合而成的高ke技产品。

第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

ikn上海依肯胶体磨与国nei胶体磨部分对比分析：（更多请接洽上海依肯林工）

设备结构：国nei胶体磨设备的结构设计为三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区，沟槽是直线，同级的沟槽深度一样

上海IKN设备的设备结构为三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区，虽然都是三级结构，但是他们的设计不同理念不同，形状及齿列的结构，沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅，配置有金属碳化物或陶瓷涂层的锥型转子/定子，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蚀。

zui大线速度：国nei胶体磨设备能达到的zui大线速度大约在10-15M/S

                     在相同直径磨头下，上海IKN设备线速度可达

V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S

V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

zui大作用力：国nei胶体磨作用力大约在14293-215440 S-1

上海IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

而对CMO模块头，磨头的间歇G理论可以无线小，但是由于高速的运转，造成轴的振动，需要一定的间歇，作用力可以无线大，但实际上比胶体磨要好。这是粉碎研磨的zhong要因素，相当于国nei胶体磨的2-3倍。

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