完全分散氧化铝纳米分散液分散机  招商

完全分散氧化铝纳米分散液分散机，氧化铝粉体研磨分散机，湿法分散纳米氧化物粉体分散机，纳米氧化铝催化剂高速分散机，纳米氧化铝改性三元材料分散机

氧化铝是用途zui广的陶瓷，α氧化铝是氧化铝的稳定相，由于其优异的性能，在许 多领域有着极其广泛的应用，但其作为结构陶瓷的缺点，就是脆性。正是这一缺点极大地限 制了氧化铝陶瓷更广泛的应用。α氧化铝纳米颗粒是制备氧化铝纳米晶陶瓷优异的原材 料，而氧化铝纳米晶陶瓷有望解决氧化铝陶瓷的脆性问题。同时α氧化铝纳米颗粒具有耐 腐蚀、耐高温、高硬度、高强度、抗磨损、抗氧化、绝缘性好和表面积大等特点，使其在冶金、 化工、电子、国防、航天及核工业等高科技领域得到了广泛的应用。

α氧化铝纳米颗粒的特性直接影响最终制备出的陶瓷材料的性能。欲制备纳米氧 化铝陶瓷，需先要制备出分散无团聚、颗粒细小的a氧化铝纳米颗粒粉体，再进行成型和致 密化烧结。如果粉体的分散性不好，有团聚，成型的素坯中孔隙尺寸分布很宽，在烧结致密 化过程中大气孔难于消除，升高烧结温度会导致晶粒过分长大。其次，纳米颗粒越细小，在 一定的烧结温度下，致密化速度快，而有望获得致密细晶粒的α氧化铝陶瓷。在电子工业 领域，随着多层布线基片日趋薄型化（<1〇〇 nm)，并且要求基片具有良好的物理结构，这只 有使用超细的氧化铝纳米颗粒粉体才能满足要求。

常见的制备氧化错纳米粉体的方法有沉淀法、喷雾热解法、微乳液法和溶胶凝胶法。制备设备有砂磨机、球磨机、胶体磨、高速剪切分散机

球磨机/砂磨机：锆珠易损，引入杂质，更换维修成本高；

国内胶体磨/研磨机/分散机：转速普遍2930rpm，不超过3000rpm，作用力弱，粉碎研磨细度不够，浆料稳定性差；

德国IKN研磨分散机（改进型胶体磨/改进型分散机）：转速范围9000rpm-14000rpm-21000rpm，剪切力，研磨力，分散力更强，粒径更小，分布范围更窄，浆料稳定性更好。产生均匀的尺寸减小率并产生窄的，一致的和可重复的粒度分布。

IKN研磨分散机可在制药，食品和精细化工行业中实现均匀的粒度分布和解聚集分散，帮助能够减少或规避资本支出，同时提供改进的成品。IKN研磨分散机采用了二级处理结构，第yi级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块，第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块。第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子，定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF，（2P剪切力zui弱，为粗齿，8SF剪切力zui强，为超细齿）且定转子经密度都达到了guo际领xian水平。IKN研磨分散机已通过数千种应用进行了改进，可提供可靠的可扩展性，可重复性和性能。我们zui新的设计融合了许多创新，提供更多应用多功能性，更易于清洁和维护。

  影响分散结果的因素有以下几点

1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

Ikn研磨分散机设备结构：
第yi级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

IKN研磨分散机特点：

1、胶体磨+分散机二合一设计：粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

  2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺

3、设备运转速度高达14000转，是国nei普通分散机的4-5倍，gao效细化分散研磨物料

4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热

5、采用德国双端面机械密封，在保证有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作

6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，ji大程度降低了风险

CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

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