盐酸头孢噻呋超高速分散胶体磨  招商

盐酸头孢噻呋超高速分散胶体磨，长效盐酸头孢噻呋注射液胶体磨，注射用头孢噻呋钠胶体磨，医药胶体磨，10000转高速胶体磨 ，头孢噻呋晶体注射液胶体磨，或者高速均质机，高速粉液混合均质泵，高速是此设备解决的难点  ，盐酸头孢噻呋混悬注射液 注射用头孢噻呋钠。药物混悬液指难溶性固体药物以微粒状态分散于分散介质中形成的非均匀分散的液体药剂。分散相微粒的大小一般在0.5～10μm之间，小的微粒可为0.1μm，大的微粒可达50μm或更大。混悬剂的分散介质多为水，也有用植物油。

该设备用于将粉末状的药物有效成分分散至注射用大豆油相中，形成均一、稳定、粒度分布集中的混悬液，然后输送至分装缓冲罐，进行分装。

可以采用CMS2000    ERS2000 或者CMSD2000 等型号胶体磨，区别在于混悬液/注射液粒径分布不同详询上海依肯机械  林工
 

目前国内市场上大多数的胶体磨厂家生产出来的胶体磨转速只能达到3000rpm左右，当然我所说的都是指工业化的胶体磨机。对于实验室小型胶体磨机，由于电机（220V），轴等因素转速可达20000rpm左右，但是这种实验室胶体磨无法对应放大到生产中，所以在这里不做重点讲诉。
                                      

国内胶体磨的结构大都都是直连电机，胶体磨机的主轴和电机直连，电机就决定了主轴的转速。而进口胶体磨采用分体式结构，通过皮带进行变速，国产设备由于结构的设计缺失、机械密封技术的不足的原因，以及改进后成本大幅度的提高问题，一直无法实现高速胶体磨机的自主研发和生产。

盐酸头孢噻呋超高速分散胶体磨通过皮带传送，可实现2到3倍的加速，同时立式直立的转轴，运转稳定性大大提高，同时转子动平衡性得到提高，间隙也允许缩小而不产生摩擦。因此立式湿法粉碎机有zui好的乳化分散粉碎效果。根据其定转子剪切的原理，还可以实现固体物料在液体介质中的粉碎，超细物料的均匀分散，以及加速大分子物质的溶解。经过特别设计的高剪切胶体磨也可以成为反应发生的场所，比如两种液体物料反应生成固体颗粒，通过分别通入腔体，两种物料接触时被剪切成微滴，均匀混合后反应生成的粒子大小均匀，并且粒径很小。

上海依肯研磨分散胶体磨设备特点：
1、耐有机溶剂、耐腐蚀；
2、材质为316L不锈钢；
3、设备定转子（研磨分散工作腔体）间间隙可调，粒度可控；
4、设备整体机身夹套设计，高转速产生的热量可以通过外接冷却设备进行控温；
5、主轴与电机分体设计，用户可根据需要选择适当的转速；
6、设备为变频调速，可通过变频控制柜合理准确的调节设备转速；
7、可灵活设计生产过程中的特殊需求（设备表面光洁度、真空、防爆、设备材质）；

8、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，ji大程度降低了风险

IKN胶体磨与国nei胶体磨的性能比较：

一、转速和剪切速率：

IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转    

F=23/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

国nei胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440 S-1

通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的zhong要因素，相当于前者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距：

IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。

间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工

国nei胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差

三、机械密封：

IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至zui低，可24小时不停运转

国nei胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁

四、清洗：

IKN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计无死角，立式结构符合流体原理，清洗更简便

国nei胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，

通常情况，需要拆卸机器进行清洗

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